管式熱工設(shè)備 臥式爐
產(chǎn)品概述
專為科研機(jī)構(gòu)和高校設(shè)計(jì)的小批量高精度設(shè)備，支持氧化、擴(kuò)散、退火、LPCVD 等工藝，兼具生產(chǎn)、實(shí)驗(yàn)教學(xué)與工藝開發(fā)功能。
產(chǎn)品特點(diǎn)
單管小批量工藝兼容：集成擴(kuò)散、氧化、退火及 LPCVD 工藝，橋接實(shí)驗(yàn)與量產(chǎn)驗(yàn)證。
生產(chǎn)型設(shè)備指標(biāo)下放：保留量產(chǎn)設(shè)備性能，適配高?？蒲袕睦碚摰焦こ袒墓に囼?yàn)證。
技術(shù)指標(biāo)
晶圓尺寸、工藝管數(shù)8英寸及以下 1-4管(可選)/臺(tái) |
溫度范圍200°C-600°C 600°C-1200°C |
溫度均勻性≤±1°C |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度200~500mm |
單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性≤±0.5°C/24h(1100°C) |
溫度斜變能力最大升溫速率15°C/min |
應(yīng)用場(chǎng)景
適用材料：硅、化合物半導(dǎo)體等；
核心工藝：PN 結(jié)擴(kuò)散、LPCVD 薄膜沉積、高溫退火；
應(yīng)用領(lǐng)域：高?？蒲性核に囇邪l(fā)、功率器件中試生產(chǎn)。
產(chǎn)品類別
科研版
關(guān)鍵詞
半導(dǎo)體裝備
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