01 十七年積淀：國(guó)產(chǎn)裝備硬實(shí)力

艾科威的技術(shù)根基可追溯至2007年啟動(dòng)的半導(dǎo)體裝備研發(fā)團(tuán)隊(duì)，歷經(jīng)八年技術(shù)沉淀與行業(yè)深耕，于2015年正式注冊(cè)成立湖南公司，現(xiàn)已成長(zhǎng)為國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。組建了由資深專家領(lǐng)銜的核心技術(shù)團(tuán)隊(duì)，匯聚了國(guó)內(nèi)頂尖科研機(jī)構(gòu)的技術(shù)力量，形成了覆蓋集成電路、分立器件、5G通信、光電器件、傳感器等全領(lǐng)域的研發(fā)與生產(chǎn)能力。

公司建成1500平米萬(wàn)級(jí)凈化車間與1000平米千級(jí)凈化實(shí)驗(yàn)室，構(gòu)建從器件研發(fā)到批量生產(chǎn)的全流程解決方案體系。截至2025年，累計(jì)獲得60+項(xiàng)專利及軟著（含10項(xiàng)授權(quán)發(fā)明專利），突破多項(xiàng)國(guó)外技術(shù)封鎖；通過(guò)ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證和SEMIS2安全認(rèn)證，設(shè)備性能與穩(wěn)定性達(dá)國(guó)際一流水準(zhǔn)。目前已服務(wù)華為、中車、中電科等300+企業(yè)，科研客戶覆蓋90%以上半導(dǎo)體領(lǐng)域“雙一流”高校。

02 設(shè)備矩陣：解鎖核心工藝

立式氧化擴(kuò)散退火爐

設(shè)備特點(diǎn)：

高精度濕度（氧化）溫度控制：采用專業(yè)溫控系統(tǒng)，精準(zhǔn)調(diào)控中區(qū)間溫度，可選全自動(dòng)化機(jī)臺(tái)與手動(dòng)機(jī)臺(tái)，既滿足高效生產(chǎn)，也能兼顧小批量創(chuàng)新研發(fā)。

先進(jìn)顆粒污染防控：千級(jí)組裝車間，EP級(jí)管道，搭配高效凈化技術(shù)，減少工藝過(guò)程中的顆粒干擾，保障硅片界面質(zhì)量。

高可靠性系統(tǒng)設(shè)計(jì)：設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定，滿足光電器件制備的精密工藝要求。

應(yīng)用場(chǎng)景：

適用材料：硅、鈮酸鋰、化合物等半導(dǎo)體基片。

適用工藝：主要用于進(jìn)行氧化、擴(kuò)散、退火（包括合金退火）和化學(xué)氣相沉積（LPCVD）等工藝。

臥式氧化擴(kuò)散退火爐

設(shè)備特點(diǎn)：

多工藝組合靈活配置：支持氧化、擴(kuò)散、退火等多種工藝切換，適配多樣化需求。

成熟穩(wěn)定的設(shè)備架構(gòu)：經(jīng)過(guò)市場(chǎng)驗(yàn)證的設(shè)計(jì)，保障長(zhǎng)時(shí)間可靠運(yùn)行。

高可靠性工藝輸出：滿足半導(dǎo)體材料電學(xué)特性調(diào)控與器件結(jié)構(gòu)制備需求。

應(yīng)用場(chǎng)景：

適用材料：硅、碳化硅等半導(dǎo)體材料。適用工藝：主要用于進(jìn)行氧化、擴(kuò)散、退火（包括合金退火）和化學(xué)氣相沉積（LPCVD）等工藝。

PVD磁控濺射鍍膜機(jī)

設(shè)備特點(diǎn)：

高精度溫度控制能力：基片臺(tái)溫控適配不同材料薄膜沉積的溫度需求。

先進(jìn)顆粒污染防控：腔體設(shè)計(jì)減少鍍膜過(guò)程中的顆粒干擾，提升薄膜純凈度。

大產(chǎn)能與自動(dòng)化集成：適配批量生產(chǎn)，支持金屬、介質(zhì)等多種材料薄膜制備。

應(yīng)用場(chǎng)景：

適用材料：硅、化合物半導(dǎo)體、陶瓷、石英等基底。

適用工藝：磁控濺射鍍膜，用于制備金屬（如Al、Au）、介質(zhì)（如 SiO?、ITO）薄膜。適用領(lǐng)域：集成電路電極制備、光電器件薄膜沉積。

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)

設(shè)備特點(diǎn)：

數(shù)字化智能控制：工藝過(guò)程全數(shù)字化自動(dòng)控制，操作簡(jiǎn)便易上手。

恒壓自動(dòng)控制：反應(yīng)壓力恒定自動(dòng)調(diào)節(jié)，保障工藝重復(fù)性與穩(wěn)定性。

可配置loadlock上料腔：減少大氣污染，提升上料效率與腔體真空保持能力。

應(yīng)用場(chǎng)景：

適用材料：硅、二氧化硅、氮化硅等；

核心工藝：晶體管柵極刻蝕、MEMS 結(jié)構(gòu)加工、接觸孔刻蝕；

應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路制造、微機(jī)電系統(tǒng)、光電子器件。

離子束刻蝕機(jī)(IBE)

設(shè)備特點(diǎn):

雙模式工件臺(tái)：單片式（角度-90至90°可調(diào)）與多片式（圓周旋轉(zhuǎn)），適配科研與量產(chǎn)需求。

水冷低溫刻蝕：水冷式工作臺(tái)設(shè)計(jì)，穩(wěn)定控溫實(shí)現(xiàn)晶片低溫刻蝕，有效降低熱損傷風(fēng)險(xiǎn)。

應(yīng)用場(chǎng)景：

適用材料：金屬、陶瓷、化合物半導(dǎo)體、石英等；

核心工藝：硬脆材料刻蝕、納米結(jié)構(gòu)加工、離子銑削；

應(yīng)用領(lǐng)域：光電子器件、量子芯片、微納光學(xué)元件。

激光封焊機(jī)

設(shè)備特點(diǎn)：

高可靠激光源：進(jìn)口燈泵浦YAG固體激光器，性能穩(wěn)定。

精密CNC工作臺(tái)：精密導(dǎo)軌+交流伺服電機(jī)，控制精準(zhǔn)。

柔性軌跡編程：可根據(jù)工件的形狀進(jìn)行焊接軌跡編程

多工件陣列系統(tǒng)：焊接前進(jìn)行焊接軌跡模擬演示，實(shí)現(xiàn)焊接全程自動(dòng)控制

多工件陣列系統(tǒng)：支持批量焊接，提升生產(chǎn)效率。

應(yīng)用場(chǎng)景：

適用材料：可伐合金、不銹鋼等金屬殼體等；

核心工藝：惰性氣體保護(hù)激光焊接、氣密性封裝；

應(yīng)用領(lǐng)域：TR 組件、傳感器、光通訊模塊封裝。

03 微納平臺(tái)：工藝裝備協(xié)同落地

艾科威搭建1000㎡千級(jí)凈化微納加工實(shí)驗(yàn)室，集成氧化退火爐、擴(kuò)散爐、磁控濺射鍍膜機(jī)等核心設(shè)備，配套布魯克DEKTAK XT臺(tái)階儀、Filmetric F20光學(xué)膜厚儀、RTS-9四探針?lè)阶鑳x、晶萃光學(xué)紅外顯微鏡等測(cè)試儀器，支持氧化、擴(kuò)散、退火、PVD CVD薄膜沉積、刻蝕工藝等驗(yàn)證，并支持與客戶合作進(jìn)行工藝共研和設(shè)備協(xié)同開發(fā)。
平臺(tái)面向高校、科研院所及半導(dǎo)體企業(yè)，提供工藝認(rèn)證服務(wù)——通過(guò)晶圓擴(kuò)散、氧化、退火及金屬/介質(zhì)薄膜制備等工藝驗(yàn)證，為設(shè)備量產(chǎn)前的參數(shù)優(yōu)化、穩(wěn)定性測(cè)試打造“工業(yè)級(jí)試錯(cuò)場(chǎng)”。

秉持“工藝牽引裝備研發(fā)”理念，團(tuán)隊(duì)將工藝需求深度融入設(shè)備設(shè)計(jì)：既實(shí)現(xiàn)晶圓級(jí)工藝的精準(zhǔn)復(fù)現(xiàn)（如晶格缺陷修復(fù)、薄膜均勻性控制），也能針對(duì)量子芯片、MEMS等前沿場(chǎng)景，定制“設(shè)備+工藝”一體化解決方案，助力客戶縮短研發(fā)周期、降低試錯(cuò)成本，加速技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線的轉(zhuǎn)化。

04 設(shè)備矩陣：解鎖核心工藝

客戶群體

科研與教育：覆蓋國(guó)防科技大學(xué)、南京大學(xué)等90%以上半導(dǎo)體領(lǐng)域“雙一流”高校，支撐前沿器件研發(fā)。

工業(yè)客戶：服務(wù)華為、中車、中電科等300余家企業(yè)，設(shè)備已在頭部晶圓廠等主流半導(dǎo)體制造企業(yè)產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定應(yīng)用 。

戰(zhàn)略合作

與卓勝微電子、光迅科技等龍頭企業(yè)共建“裝備-工藝-材料”協(xié)同創(chuàng)新生態(tài)，聯(lián)合攻關(guān)第三代半導(dǎo)體（碳化硅、氮化鎵）設(shè)備、2.5D/3D 先進(jìn)封裝裝備等“卡脖子”技術(shù)。

05 設(shè)備矩陣：解鎖核心工藝

艾科威正加速布局第三代半導(dǎo)體設(shè)備、量子芯片關(guān)鍵工藝裝備，并設(shè)立蘇州子公司開拓華東市場(chǎng)，計(jì)劃三年內(nèi)啟動(dòng)海外布局。通過(guò)博士創(chuàng)新工作站與國(guó)家級(jí)研發(fā)平臺(tái)建設(shè)，公司將持續(xù)以國(guó)產(chǎn)裝備賦能半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化注入強(qiáng)勁動(dòng)能。