立式高溫氧化退火爐
產(chǎn)品概述
通過高溫氧化反應(yīng)在晶圓表面生成高質(zhì)量二氧化硅膜層，作為器件隔離介質(zhì)、離子注入掩蔽層及表面鈍化保護(hù)結(jié)構(gòu)。
產(chǎn)品特點(diǎn)
高潔凈度腔體環(huán)境：采用專業(yè)材料與設(shè)計(jì)，保障氧化膜制備過程的純凈度。
大產(chǎn)能連續(xù)作業(yè)能力：支持批量晶圓處理，適配集成電路等領(lǐng)域的規(guī)?；a(chǎn)。
高穩(wěn)定性工藝輸出：設(shè)備運(yùn)行可靠，確保氧化膜性能均勻一致。
技術(shù)指標(biāo)
晶圓尺寸：8英寸(兼容6英寸)
溫度范圍：800°C-1200°C
恒溫區(qū)長度：860mm
裝載片量：150片/批
溫度均勻性：±0.5°C
應(yīng)用場景
適用材料：8 英寸及以下晶圓。
適用工藝：高溫氧化工藝（800℃-1200℃），用于制備氧化膜（如離子注入阻擋層、絕緣柵材料）。
適用領(lǐng)域：集成電路制造、器件保護(hù)層制備。
產(chǎn)品類別
工業(yè)版
關(guān)鍵詞
半導(dǎo)體裝備
推薦產(chǎn)品
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